HFSS 기본
교육기간 : 2023년 4월 4일~4월 4일(10:00~17:00)
교육장소 : 서울 /7층 D교육장
※ 카드 ? 현장결제 (카드결제 후 거래명세서 메일 전송)
현금 ? 전자세금계산서(청구/영수) or 계좌이체
※ 교육 상황에 따라 교육장이 변경될 수 있으니 참고 부탁드립니다.
■ 필수 선행과목
HFSS 기본
■ 수강 대상
반도체/디스플레이 제조 공정의 RF Source 장비 관련 개발 엔지니어 or 연구생
■ 수강 목적
상용 3D CAD파일(*.step, *.sat, *.iges 등)을 Import하여 AEDT 3D Modeler 환경에서 해석 진행
Capacitor 용량에 따른 전류 분배 및 전/자기장 필드, 임피던스 변화 확인
Source Matcher의 매칭 매커니즘 및 매칭 전/후의 동작 특성 확인
복잡한 챔버 형상의 단순화를 통한 해석 시간 단축
■ 교육 소개
* 반도체/디스플레이 생산 장비 중 증착/식각에 사용되는 RF Source 해석 특화 과정
Plasma 발생용으로 사용되는 RF Source는 일반적으로 고주파 RF 신호원을 사용하게 되고 대표적으로 전극 타입의 CCP(Capacitively Coupled Plasma), 코일 타입의 ICP(Inductively Coupled Plasma) Source가 있습니다.
본 교육에서는 자체제작한 ICP, CCP 챔버 모델을 제공하며 Ansys Electronics 제품군인 HFSS, Circuit 툴을 이용한 전자기장 필드 및 임피던스, 코일의 전류 분배 해석 방법 등을 실습합니다.
따라하기 쉽게 한글로 제작된 교재 및 다양한 예제를 사용한 교육을 통해 RF Source 분석 방법에 대해 알아 볼 수 있는 시간이 될 것입니다.
■ 교육 상세 일정
1일차
LE01 : RF Plasma Source 소개
WS01 : 4-Coil ICP Source Antenna 해석
WS02 : 2-Coil ICP Source Antenna 해석
WS03 : Dynamic Link Advanced
WS04 : CCP ? PECVD 챔버 해석
WS05 : HFSS 모델 형상 분석 및 단순화 실습
Appendix : ICP Source 열 해석 방법 소개
교육시작 2주전부터 순차적으로 승인메일이 발송되며, 마이페이지에서 상세 정보를 확인하실 수 있습니다.
* 1, 2번 내용 확인 후에도 안내메일을 받지 못하신 경우, 태성에스엔이 카카오톡채널 또는 교육센터로 재발송 요청해주시기 바랍니다.